CVD氫氣發生器的全部工作過程均由程序控制，自動恒壓、恒流，通過串聯控制線，可實現多組并聯使用，操作方便使用時只需打開電源開關即可產氫，使用后無需泄壓。

更新時間：2023-09-25丨訪問次數：5349

氫氣發生器的安全、簡便性能使其替代了危險的高壓氫氣鋼瓶。氫氣根據需要適時適量產生，保持氫氣儲存體積和安全性。

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Peculiar 高純氫氣發生器整個過程只需去離子水和供電，即可產生氫氣，一次加水即可持續工作50天，成本低。氫氣發生器的安全、簡便性能使其替代了危險的高壓氫氣鋼瓶。氫氣根據需要適時適量產生，保持氫氣儲存體積和安全性。

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半導體專用氫氣發生器是由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥、開關電源等部件組成，設備通電后，電解池陰極產氫氣，陽極產氧氣，氫氣進入氫/水分離器，氧氣排入大氣。

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高壓氫氣發生器產出的氫氣有兩種不同的來源，一個是純水電解制氫，另一個則是堿液電解制氫，設備采用英國Peculiar研發離子膜（技術）。

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超高純氫氣發生器可以連續可靠的產生純度*的氫氣，純度99.99999%，從而使昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶*告別實驗室，因更換鋼瓶而中斷重要分析工作的情況將不復存在，只需去離子水和供電，即可產生氫氣，一次加水即可持續工作15天，成本低。

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高純氫氣發生器采用英國Peculiar研發離子膜（技術），采用分子篩耐用干燥劑，使氫氣純化更加*，以產生純度為99.9995-99.9999%的氫氣，確保結果的重現性。

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MOCVD氫氣發生器使用固態電解質（PEM）法產生氫氣，以超純凈水原料，以固體聚合物為電解質，貴金屬做電極有效的除濕裝置，降低了原始濕度，純度穩定。

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